AgOx薄膜的光開關特性和機理研究

用磁控濺射法制備了具有超分辨近場結構的系列薄膜,測量了非線性層AgOx的光開關特性及其結構隨溫度的變化,分析了AgOx的光開關特性與微結構之間的內在聯系.

作 者： 熊曹水 熊永紅 趙天鵬 羅震林 明海   作者單位： 熊曹水(中國科學技術大學,結構成分分析中心,安徽合肥230026;中國科學技術大學,物理系,安徽合肥230026)

熊永紅(中國科學技術大學,天文與應用物理系,安徽合肥,230026)

趙天鵬,羅震林,明海(中國科學技術大學,物理系,安徽合肥230026) 

刊 名： 中國激光  ISTIC EI PKU 英文刊名： CHINESE JOURNAL OF LASERS  年，卷(期)： 2002 29(5)  分類號： O484.1  關鍵詞： 磁控濺射   超分辨近場結構   AgOx薄膜   開關特性  

【AgOx薄膜的光開關特性和機理研究】相關文章：

準相位匹配PPLN波導全光開關特性研究04-29

GaAs與InP半導體光導開關特性實驗研究04-29

摻Nd納米ZnO薄膜特性研究04-28

不同氧分壓下ZrO2薄膜特性研究04-26

多晶硅納米薄膜電學特性的實驗研究04-28

溶膠-凝膠VO2薄膜轉換特性研究?04-29

氟摻雜的氧化鋅薄膜的結構和光學特性04-27

N 摻雜ZnO薄膜的接觸特性04-26

摻雜納米硅薄膜的生長特性04-29

射頻反應濺射制備的ZnO薄膜的結構和發(fā)光特性04-27